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科(kē)教儀器(qì)芯片制(zhì)造中,這(¶±$≥zhè)個(gè)儀器(qì)很(hěn)重要(±•>yào)

時(shí)間(jiān):2022-09-16 ♣∏‍20:15:25 點擊次數(shù):527
 

濕電(diàn)子(zǐ)化(huà)學品指為(wèi)微(wē®¥≈§i)電(diàn)子(zǐ)、光(guāng←γ)電(diàn)子(zǐ)濕法工(gōng)藝(主要(yà≠$λδo)包括濕法刻蝕、清洗、顯影(yǐng)、✘←¥互聯等)制(zhì)程中使用(yòng)的(de)各種電(diàn)子(zǐ)化(hu←★$à)工(gōng)材料。按用(yòng)途可(™✘kě)分(fēn)為(wèi)通(tōng)用(yòng)化(huà)學品(又(yòu)稱超≈ε∞$淨高(gāo)純試劑)和(hé)功能(n¶<£•éng)性化(huà)學品(以光(guāng)刻膠配套試劑為(wèi)代表)。

其中超淨高(gāo)純試劑需求量占比達88%,占比的(de)依次∑↕是(shì),硫酸、雙氧水(shuǐ)、氨水(shuǐ)、氫氟酸、異丙醇、硝酸以及±∞磷酸;功能(néng)性化(huà)學品占比達12%,占比依次是(shì)↔>↑£,半導體(tǐ)用(yòng)顯影(yǐng)液、刻蝕液、面闆用(yò <✔ng)顯影(yǐng)液、剝離(lí)液φ×£α以及緩沖刻蝕液。

梅特勒托利多(duō)電(diàn)位滴定儀在電(diàn)子(zǐ)濕化(huà)學品中的(d✔ e)應用(yòng)非常廣泛,以下(xià)精選部©¥€→分(fēn)典型應用(yòng):

電(diàn)位滴定儀

1

通(tōng)用(yòng)濕電(diàn)子(zǐ)化(h¶σuà)學品

硫酸铈法測定雙氧水(shuǐ)含量

雙氧水(shuǐ)含量的(de)滴定通(tōng)常有(yǒu)高(gāo)錳酸鉀法和(hé)硫₩♥♦酸铈滴定法,由于硫酸铈作(zuò)為(wèi)滴定液非常穩定,可(k ∞ě)以直接配制(zhì)而不(bù)用(yòng)标定就(jiù)可(kě)以等到(dà♥♣o)标準溶液,使用(yòng)非常方便。

取0.1~0.5g雙氧水(shuǐ),加DI水(shuǐ)至錐形瓶20mL刻度,₹σ±加20mL 20%硫酸用(yòng)0.1mol/L硫酸铈标液滴定,滴至終點。

雙氧水(shuǐ)含量結果

采用(yòng)高(gāo)錳酸鉀法測定雙氧水(shuǐ®∑)含量,操作(zuò)簡單,檢測快(kuài)速(3-5min),測定結果準确$₹≥‌,測定重複性相(xiàng)對(duì)标準偏差可(kě)控制(zhì)φ≤ π在1%以內(nèi)。

儀器(qì)配置:電(diàn)位滴定儀,DMi140-SC氧化(huà)還(hái)原電(diàn)↑≥極,DV1010滴定管

其他(tā)通(tōng)用(yòng)化(hu±"<à)學品解決方案

2

功能(néng)性濕電(diàn)子(zǐ)化(huà)學品✔™↔

顯影(yǐng)液-四甲基氫氧化(huà)铵測定

梅特勒托利多(duō)電(diàn)位滴定儀可(kě)有£≥Ω(yǒu)效控制(zhì)四甲基氫氧化(huà)铵的(de)含量,方法參照(zhào)S≈↑J/T11636-2016 電(diàn$±)子(zǐ)工(gōng)業(yè)用(yòng)顯影(yǐng)液中♠↕四甲基氫氧化(huà)铵的(de)測定電(diàn)位滴定法。

方法:精密稱取适量樣品(精确到(dào)0.00→♣☆ 01g),置于滴定杯中,加入50mL去(qù)離(lí)子(zǐ)水(shuǐ),用(yòng₹→)0.1N鹽酸滴定液進行(xíng)滴定,以第一(yī)個(gè)等當點計(jì)算(suàn)©β四甲基氫氧化(huà)铵含量。

采用(yòng)兩種方法對(duì)四甲基氫氧化(huà)铵的(de)測定結果準确,重複性好(φ≤ hǎo),最大(dà)絕對(duì)誤差均小(x≤>≈↓iǎo)于0.01%。

儀器(qì)配置:電(diàn)位滴定儀,DGi111-SC/DGi115-SC酸堿滴定電(ε₩αdiàn)極,DV1020滴定管。

緩沖刻蝕液-氟化(huà)铵和(hé)氫氟酸測定

緩沖刻蝕液主要(yào)用(yòng)來(lái)刻蝕晶圓上(shàng)深槽的(de)SiO€÷¶→2氧化(huà)膜。氧化(huà)膜的(de)腐蝕速度在溫度一(yī)定₩≥÷時(shí),主要(yào)取決于腐蝕液的(de)配比和(hé)SiO2參雜(zá)情況。采用÷≤<(yòng)梅特勒托利多(duō)電(diàn)位滴定儀測÷↕¥定腐蝕液的(de)配比,測定結果準确,重複性良好(h×‍✘ǎo)。

精密稱取适量樣品,加入50ml水(shuǐ)稀釋,用(yòng)0.1mol/L氫φ∑÷'氧化(huà)鈉進行(xíng)滴定,滴定過程中有(yǒu)兩個(gè)突躍,第一( •££yī)個(gè)突躍為(wèi)HF的(de)滴定終點,第二個(gè)突躍£™≈為(wèi)氟化(huà)铵的(de)滴定☆‍"×終點。

HF的(de)pKa為(wèi)3.45,NH4+的(de)pKa為(wèi)9.25,所以第一(€↑yī)個(gè)突躍為(wèi)HF的(de)滴定終點,第二個(gè)突躍為(wè✘•i)NH4F的(de)滴定終點。根據HF和(hé)NH4Ω≥∞+解離(lí)平衡常數(shù)的(de)區(qū)别,采用(yòng)一(yī)步滴定即可(kěσ↔≥$)測定HF和(hé)NH4F的(de)濃度。

儀器(qì)配置:電(diàn)位滴定儀,DGi111-SC©♥©©/DGi115-SC酸堿滴定電(diàn)極,DV1010滴定管♣✔↓

鋁刻蝕液-硝酸、磷酸、醋酸

三元混酸含量的(de)滴定

方法一(yī),主要(yào)應用(yòng)是(shì)鋁刻蝕液© ©‍原料監控:

刻鋁酸含量測定(4%HNO3、75%H3PO4γφ、10%HAc)

滴定劑(0.2 M KOH-2-Isopronal)

溶劑:乙醇:丙二醇=1:1

儀器(qì):電(diàn)位滴定儀+DGi113-SC非水(shuγ∏≈♣ǐ)酸堿滴定電(diàn)極

方法二,主要(yào)應用(yòng)是(shì)鋁刻蝕液生(shēng)産槽監控—<÷↓—分(fēn)步滴定,原因:樣品在生(shēng)産中帶入 "¶了(le)鋁等其它離(lí)子(zǐ)會(huì)影(yǐng"∑‌ )響測定

第一(yī)步:利用(yòng)氧化(huà)還(hái)原法,采用(yòng)0.1㥧≥N 硫酸亞鐵(tiě)铵滴定HNO3

溶劑:硫酸-水(shuǐ)(4:1)

第二步:利用(yòng)酸堿滴定,采用(yòng)0.5N NaOH滴定H3®★✔★PO4 和(hé) HAc

用(yòng)飽和(hé)氯化(huà)鈉水(shuǐ)溶液作(zuò)溶劑:V1是(sh×←"ì)硝酸+磷酸的(de)第一(yī)個(gè)H,V2是(shì)HAc磷酸的(de)第λ≥≥二個(gè)H

其他(tā)功能(néng)性濕電(diàn)子(zǐ)化(hu​✔à)學品測定解決方案

3

DispenSix全自(zì)動取樣、在線滴定系統

在線分(fēn)析系統所有(yǒu)化(&↓✔≤huà)學分(fēn)析部件(jiàn)均采©>←用(yòng)模塊化(huà)設計(jì),分(fēn)析模塊設計( ​jì)及材料選用(yòng)完全耐腐的(de)高(gāo)性能(néng)材料如(rú≥™↕¶):玻璃, PTFE, PVDF 和(hé) FEP。在實際運用(yòng)中,用(§ yòng)戶可(kě)以根據檢測指标進行(xíng)配置,并根據工(gōng)廠(chǎ™±®ng)生(shēng)産要(yào)求自(zì)行(xíng)設定最适宜的(de)分↔₹(fēn)析周期。自(zì)動采集樣品和(hé)分(fēn)析測定,分(fēn)析過程結束← 後,儀器(qì)自(zì)動用(yòng)去(qù)離(lí)子(zǐ)水(s≥←α≈huǐ)沖洗反應杯,将分(fēn)析結果顯示到(d ∏ào)儀器(qì)屏幕,并通(tōng)過以太網¥¥∑将數(shù)據傳輸至中控室LabX軟件(jiàn)工(gōng)作(zuò)站(z​≠✔hàn)。同時(shí)labX工(gōng)作(zuò)站(zh™♣àn)還(hái)可(kě)以實現(xià‌∏σ☆n)與LIMS、ERP等系統的(de)數(shù)據對(du•βì)接,真正實現(xiàn)24小(xiǎo)時(shí)無人(rén)值守的(de)監控。¶∑

全自(zì)動高(gāo)精度取樣單元Li♠¶←πquid Handler是(shì)一(yī)個(gè)有(yǒu)6個(gè)閥門(mén)的(δ₩de)滴定管功能(néng),可(kě)以精準吸液、潰液和(hé)<∏αγ準備,可(kě)在生(shēng)産線上(shàng)實時(shí)監控槽液酸、堿、π∑∞銅離(lí)子(zǐ)等含量。下(xià)面是(shì)Liquidhandler← 分(fēn)别在線測定六價鉻的(de)和(hé)在線測定"•鈾含量的(de)方案,可(kě)見(jiàn)梅特勒托利多(duō)在線滴定₹∏π系統的(de)多(duō)元化(huà)。

模塊化(huà)的(de)設計(jì),任意零部件(jiàn)磨損或者老(lǎo)化‌×€♦(huà)可(kě)以進行(xíng)更換和(hé)維修,維修方便簡單,經過培訓,客戶可(kě)以★§自(zì)己進行(xíng)更換和(hé)維修。

現(xiàn)今,中國(guó)已成為(wèi)全球最大(dà)的(de)半導體(tǐ)消費(₹±♥​fèi)市(shì)場(chǎng)。物(wù)聯網、5G通(&€∞tōng)信、人(rén)工(gōng)智能(néng)等下‌∑★✘(xià)一(yī)輪終端需求,為(wèi)中國'$ £(guó)大(dà)陸半導體(tǐ)産業(yè)發展創造了(le)新的(de)機(jī)遇。我們在÷¶÷∏電(diàn)子(zǐ)濕化(huà)學品的(de)應用(yòng)方法和‌÷$(hé)案例非常豐富,可(kě)以提供多(duō)種解決方案。↕δ↓

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領取電(diàn)子(zǐ)半導體(tǐ)行(xíng)業(yè)實驗應用(yòng)手冊

今天是(shì)《半導體(tǐ)行(xíng)業(yè)觀察》為(wèi)您分(fēn ∏£§)享的(de)第3069內(nèi)容,歡迎關注。

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